NFH-Paper

Zusammenfassung: Die Herstellung eines Transmissionsgitters mit geringer Periode für die optische Kommunikation wurde mit der Near Field Holographic-Technik optimiert. Eine Gitterphasenmaske mit einer Gitterperiode von 240 nm wurde verwendet, um Gitterstrukturen in Fotolack auf Si-Substraten unter Verwendung der i-Linie einer herkömmlichen Quecksilberdampflampe als Belichtungslicht zu erzeugen. Die Kontrolle des Tastverhältnisses und der Gleichmäßigkeit der holographischen Nahfeld-Transmissionsgitter wurde demonstriert. Die Technik als Fertigungswerkzeug wird diskutiert.